・国内外の特許出願 手数料1/3に、主要国で最安
・13カ国で審査短縮 特許国際出願で新たな枠組み
・保護対象を拡大 画像デザインの保護など検討
・損害賠償請求控訴事件(
・企業の知財戦略に新たな潮流~環境変化に対応する取り組み
・◆教育訓練給付を大幅拡充へ◆
・中小・ベンチャー企業支援 国内外の特許出願料金を減免
・国際特許出願 手数料納付を特許庁に一括払い
・出願・登録状況 五輪関連商標の一覧を公表
・著作権侵害(「自炊代行」)差止等請求事件
・◆中小がデザイナーと連携◆ 消費者向け製品開発に挑戦
・知的財産管理技能検定1級
・産業競争力強化法案
・類似パッケージ訴訟 「正露丸」表示、大幸薬品の請求棄却
・伝統技法の商品など 地域ブランドの保護制度を求める
・FRAND宣言した標準必須特許に基づく損害賠
・基本特許を新興国に無償解放技術の「世界標準化」を狙う
・東京オリンピック商戦と商標五輪関連の表現に注意
・特許の異議申し立て 特許付与後レビューを導入へ
・営業秘密管理の手順など 営業秘密の管理指針の改訂版公表
・カルピスの識別性認めず 「ほっとレモン」の商標登録無効
・「シリカ質フィラー」損害賠償請求事件
・営業秘密の不正持ち出し
・高齢者・障害者の感覚特性データベースを無償公開
・申請から審査まで 審査待ち時間、11ヶ月に短縮
・休眠特許を買い取り 知財ファンドを設立
・パテントボックス制度 知財関連特許で減税を検討
・特許権侵害差止等請求控訴事件
・大企業の特許・技術を活用~開放特許でビジネスマッチング~
・「中小・ベンチャー企業のための知財支援ガイド」~特許庁がパンフ公表~
・著作権確認等請求控訴事件
・■職務発明と対価■やる気を引き出す報奨制度
・ITベンチャー企業向け技術評価機関を設置
・2012年の出願・登録件数
・グローバル知財戦略 日本企業の知財、自前調達に偏り
・省エネや再生エネルギー 注目10技術分野の特許出願動向
・特許法第29条第1項第1号(公然知られた)事件
・中小企業外国出願支援事業 実用新案、冒認対策商標も対象
・「大学知財群活用プラットフォーム」が発足
・訴訟リスクの軽減 職務発明、会社保有か契約へ
・事業戦略対応まとめ審査 特許庁
・中小・ベンチャー支援 知財総合支援窓口の機能強化を
・拒絶理由通知の手続:審決取消請求事件
・◆国・地域別の模倣対策◆~マニュアルをまとめて公開
・「商品・役務を指定する際のご注意」を発表
・知財制作ビジョン 職務発明の法人帰属を検討
・国際特許出願 中国通信大手が首位
・データベース開発へ 中・韓特許で翻訳システム
・不正競争防止法2条1項3号(商品形態模倣規制)の請求主体
・商品形態模倣 損害賠償請求事件
・◆模倣被害の実態調査◆ 4社に1社が模倣被害に
・外国への出願等に要する経費の一部助成を実施
・国の知財政策の拡充を提言
・海外子会社からの収入が大半 特許黒字が過去最高額に
・面白い恋人VS白い恋人 デザイン変更などで和解
・公然と知られた発明・刊行物(29条1項3号)特許侵害差止請求事件
・TPP交渉参加へ 交渉分野には知的財産保護も
・成功事例やQ&Aなど掲載した「地域団体商標2012」を発刊
・休眠特許活用へ 官民連携ファンドを設置
・企業進出を支援 新興国の知財基盤を整備
・特許庁の審決を取消し 「あずきバー」商標登録認める
・想到容易性と拒絶理由通知:審決取消請求事件
・シニアの雇用延長で制度見直し
・製造業の復活を目指す新素材開発や中小支援
・期待型が高まる新政権の経済政策
・世界で増加する特許出願
・日本経済再生に向かう一年
・新政権に成長戦略を期待 新産業創出や円高是正を
はじめに
産業構造審議会などでの検討状況等の紹介
1. 特許法 付与後レビュー(付与後異議申立)
(1) はじめに
(2) 付与後レビュー制度の検討の背景
(3) 検討の方向性と制度案
(4) 付与後レビュー案
(5) まとめ
2. 意匠法
(1) はじめに
(2) 意匠制度小委員会の開催状況
(3) ハーグ協定ジュネーブアクトへの加盟について
(4) 画面デザインの保護拡充
3. 商標法
(1) 商標権改正を巡り検討されている事項の紹介
商標の定義の見直し
商標の登録要件、不登録事由の見直し
効力の範囲
著作権等の他の権利との調整
国内外の周知な地名の不登録事由への追加
登録後に識別力を喪失した商標の取り消し制度
パリ条約第6条の3への対応の在り方について
商標法における地域ブランドの保護の在り方について
知的財産推進計画2012、特許行政年次報告書2012の紹介
1. 知的財産推進計画2012
(1)「事業起点型サイクル」の重要性と「多次元的な知財マネジメント」
(2)知財で武装してグローバルに戦う中小・ベンチャー企業への支援
2.特許行政年次報告書2012
(1)特許出願件数の推移
(2)審査順番待ち期間
(3)早期審査制度
(4)日本、中国の実用新案登録制度の比較
付録 産業財産権関係料金
(特許庁への手続に必要な料金)概略表